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中文版 / ENGLISH
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  • PF-300T
  • PF-200T
  • NF-300H
  • 12英寸PECVD设备PF-300T

    产品介绍:


    PF-300T为拓荆承担国家“十一五”重大专项,自主设计研发的产品系列。设备已用于40-28纳米集成电路的生产,具有14纳米及以下技术的延展性,可实现所有相关介质薄膜的沉积。同时已延伸至先进膜技术,产品涵盖了高刻蚀选择比的ACHM硬掩膜、低介电常数的绝缘薄膜及NDC刻蚀阻挡层、超低介电常数的ULK薄膜,可满足客户多种技术节点要求。


    产品特点:

    -可依客户选择配置1-3路液态源,实现多种先进工艺

    -具有优异的产能和CoO

    -可与8英寸兼容互相切换(PF-200T)

    -具备TSV所需的低温(<200℃)TEOS SiO2工艺

    -通过S2安全认证和F47标准检验


  • 8英寸PECVD设备PF-200T

    产品介绍:

    PF-200T 是由我公司基于 PF 系列平台,自主研发的 8 英寸 PECVD 设备,硬件结构以及系统稳定性和 PF-300T 保持一致,并已在国内各大企业经过严格的量产验证。PF-200T 和国际同类型二手设备相比,具有产能高,维护费用低的优势,还可为客户提供完善的售后及工艺开发等服务。并可升级到 12英寸,或实现 8/12 英寸相互切换。设备另具有低温 TEOS 的 SiO2工艺,适用于三维集成电路生产(3D IC)中的 TSV 工艺。



    产品特点:

    -按行业新标准,全新设计制造

    -采用行业现有标准零部件,降低维护成本

    -具有优异的产能和CoO

    -可搭载 1-3 个 PM

    -成熟的 SiO2,SiN,SiON 及 TEOS SiO2标准工艺

    -可配置 1-3 路液态源,实现掺杂工艺

    -具备 TSV 所需的低温(<200℃)TEOS SiO2工艺

    -通过 S2 安全认证和 F47 标准检验




  • 12英寸3D-NAND

    产品介绍:

    NF-300H 设备由浙江风采网承担了国家十三五重大专项,自主研发,是国产首台应用于新一代三维闪存芯片(3D NAND)生产线上的叠层薄膜沉积设备,拥有自主知识产权。应用于128层及以上3D NAND闪存芯片的生产。可实现SiO2、SiN(ONON)多层薄膜堆叠结构和Thick TEOS 薄膜,在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破,设备性能指标达同类产品水平。


    产品特点:

    -高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换

    -可实现多层SiO2,SiN(ONON)堆叠功能

    -满足300-600℃高温沉积需求

    -PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能

    -通过S2安全认证



  • 12英寸ALD设备FT-300T

    产品介绍:

    FT-300T系列是我公司自主研发的原子层沉积(Atomic Layer Deposition)设备,ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上,满足了对设备产能的需求,现已应用于先进的芯片制造、OLED及先进封装(TSV)领域,同时针对14nm以下前道工艺(FEOL)进行研制开发。现可提供具有高质量的PEALD和Thermal ALD,如SiO2、SiN、Al2O3薄膜,并陆续开发金属氧化物及金属氮化物等薄膜工艺。


    产品特点:

    -ALD薄膜在高宽比(20:1)情况下台阶覆盖率可达到95%

    -优异的生产成本(CoO)及性能指标

    -具有优异的均匀性和优异的保型性

    -可搭载1-3个PM

    -通过S2安全认证和F47标准检验



  • 12英寸/8寸SACVD设备

    产品介绍:

    SA-300T系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积(SACVD)设备,拥有自主知识产权。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上,充分实现设备对产能的需求。该设备主要应用在STI、PMD/ILD等,满足Gap-fill的需求。


    产品特点:

    -高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺

    -可依客户选择配置1-3路液态源,实现多种先进工艺

    -可与8英寸兼容互相切换(SA-200T)

    -可搭载1-3个PM

    -具有国际领先的产能和CoO

    -通过S2安全认证和F47标准检验



  • 技术服务及零部件
    客户技术支持:


    - 在机台设备保质期内,浙江风采网将对非人为造成的软、硬件上的问题为客户提供及时的维修,以保证客户工厂生产的正常进行。

    - 浙江风采网在机台设备保质期内提供给客户充分的备用件,保质期后,客户可以购买方式取得备用部件的补充。

    -依客户所提需求,浙江风采网的工程师保证于24小时内到达客户现场给予支援。



  • 12英寸单腔PECVD设备

    产品介绍: 


    SC-300以12寸PECVD设备架构为基础,专为LED生产线、高校、研究所及企业研发机构所设计研发,可做2-12英寸的工艺,可选TEOS等液态源配置,适用于半导体、MEMS、光伏,封装等行业

PF-300T

产品介绍:

产品介绍:


PF-300T为拓荆承担国家“十一五”重大专项,自主设计研发的产品系列。设备已用于40-28纳米集成电路的生产,具有14纳米及以下技术的延展性,可实现所有相关介质薄膜的沉积。同时已延伸至先进膜技术,产品涵盖了高刻蚀选择比的ACHM硬掩膜、低介电常数的绝缘薄膜及NDC刻蚀阻挡层、超低介电常数的ULK薄膜,可满足客户多种技术节点要求。


产品特点:

-可依客户选择配置1-3路液态源,实现多种先进工艺

-具有优异的产能和CoO

-可与8英寸兼容互相切换(PF-200T)

-具备TSV所需的低温(<200℃)TEOS SiO2工艺

-通过S2安全认证和F47标准检验


PF-200T

产品介绍:

产品介绍:

PF-200T 是由我公司基于 PF 系列平台,自主研发的 8 英寸 PECVD 设备,硬件结构以及系统稳定性和 PF-300T 保持一致,并已在国内各大企业经过严格的量产验证。PF-200T 和国际同类型二手设备相比,具有产能高,维护费用低的优势,还可为客户提供完善的售后及工艺开发等服务。并可升级到 12英寸,或实现 8/12 英寸相互切换。设备另具有低温 TEOS 的 SiO2工艺,适用于三维集成电路生产(3D IC)中的 TSV 工艺。



产品特点:

-按行业新标准,全新设计制造

-采用行业现有标准零部件,降低维护成本

-具有优异的产能和CoO

-可搭载 1-3 个 PM

-成熟的 SiO2,SiN,SiON 及 TEOS SiO2标准工艺

-可配置 1-3 路液态源,实现掺杂工艺

-具备 TSV 所需的低温(<200℃)TEOS SiO2工艺

-通过 S2 安全认证和 F47 标准检验




NF-300H

产品介绍:

产品介绍:

NF-300H 设备由浙江风采网承担了国家十三五重大专项,自主研发,是国产首台应用于新一代三维闪存芯片(3D NAND)生产线上的叠层薄膜沉积设备,拥有自主知识产权。应用于128层及以上3D NAND闪存芯片的生产。可实现SiO2、SiN(ONON)多层薄膜堆叠结构和Thick TEOS 薄膜,在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破,设备性能指标达同类产品水平。


产品特点:

-高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换

-可实现多层SiO2,SiN(ONON)堆叠功能

-满足300-600℃高温沉积需求

-PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能

-通过S2安全认证



FT-300T

产品介绍:

产品介绍:

FT-300T系列是我公司自主研发的原子层沉积(Atomic Layer Deposition)设备,ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上,满足了对设备产能的需求,现已应用于先进的芯片制造、OLED及先进封装(TSV)领域,同时针对14nm以下前道工艺(FEOL)进行研制开发。现可提供具有高质量的PEALD和Thermal ALD,如SiO2、SiN、Al2O3薄膜,并陆续开发金属氧化物及金属氮化物等薄膜工艺。


产品特点:

-ALD薄膜在高宽比(20:1)情况下台阶覆盖率可达到95%

-优异的生产成本(CoO)及性能指标

-具有优异的均匀性和优异的保型性

-可搭载1-3个PM

-通过S2安全认证和F47标准检验



SA-300T

产品介绍:

产品介绍:

SA-300T系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积(SACVD)设备,拥有自主知识产权。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上,充分实现设备对产能的需求。该设备主要应用在STI、PMD/ILD等,满足Gap-fill的需求。


产品特点:

-高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺

-可依客户选择配置1-3路液态源,实现多种先进工艺

-可与8英寸兼容互相切换(SA-200T)

-可搭载1-3个PM

-具有国际领先的产能和CoO

-通过S2安全认证和F47标准检验



技术服务及零部件

产品介绍:
客户技术支持:


- 在机台设备保质期内,浙江风采网将对非人为造成的软、硬件上的问题为客户提供及时的维修,以保证客户工厂生产的正常进行。

- 浙江风采网在机台设备保质期内提供给客户充分的备用件,保质期后,客户可以购买方式取得备用部件的补充。

-依客户所提需求,浙江风采网的工程师保证于24小时内到达客户现场给予支援。



SC-300

产品介绍:

产品介绍: 


SC-300以12寸PECVD设备架构为基础,专为LED生产线、高校、研究所及企业研发机构所设计研发,可做2-12英寸的工艺,可选TEOS等液态源配置,适用于半导体、MEMS、光伏,封装等行业

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